પ્લાઝ્મા ક્લીનર્સની વિશિષ્ટ એપ્લિકેશનો

પ્લાઝ્મા ક્લિનિંગ/એચિંગ મશીનો ઇલેક્ટ્રિક ફિલ્ડ બનાવવા માટે સીલબંધ કન્ટેનરમાં બે ઇલેક્ટ્રોડ મૂકીને પ્લાઝ્મા જનરેટ કરે છે. વેક્યૂમ પંપનો ઉપયોગ ચોક્કસ વેક્યૂમ સ્તર જાળવવા માટે થાય છે. જેમ જેમ ગેસ વધુને વધુ દુર્લભ થતો જાય છે તેમ તેમ પરમાણુઓ અને પરમાણુઓ અથવા આયનોની મુક્ત હિલચાલ વચ્ચેનું અંતર પણ વધે છે. ઇલેક્ટ્રિક ફિલ્ડના પ્રભાવ હેઠળ, આ આયનો અથડાય છે અને પ્લાઝ્મા બનાવે છે. આ આયનો અત્યંત પ્રતિક્રિયાશીલ છે, લગભગ તમામ રાસાયણિક બંધનો તોડવા માટે પૂરતી ઊર્જા સાથે, કોઈપણ ખુલ્લી સપાટી પર રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓ પ્રેરિત કરે છે. વિવિધ ગેસ પ્લાઝમામાં વિવિધ રાસાયણિક ગુણધર્મો હોય છે. ઉદાહરણ તરીકે, ઓક્સિજન પ્લાઝ્મા અત્યંત ઓક્સિડાઇઝિંગ છે, ગેસ ઉત્પન્ન કરવા માટે ફોટોરેસિસ્ટને ઓક્સિડાઇઝ કરવામાં સક્ષમ છે, આમ સફાઈ અસર પ્રાપ્ત કરે છે. કોરોસિવ ગેસ પ્લાઝ્મામાં ઉત્તમ એનિસોટ્રોપી હોય છે, જે એચિંગની જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરે છે. પ્લાઝ્મા ટ્રીટમેન્ટ ગ્લો પેદા કરે છે, તેથી તેનું નામ ગ્લો ડિસ્ચાર્જ છે.
પ્લાઝ્મા સફાઈની પદ્ધતિ સપાટીના ડાઘ દૂર કરવા માટે પ્લાઝમામાં સક્રિય કણોના "સક્રિયકરણ" પર મુખ્યત્વે આધાર રાખે છે. પ્રતિક્રિયા પદ્ધતિના સંદર્ભમાં, પ્લાઝ્મા સફાઈમાં સામાન્ય રીતે નીચેની પ્રક્રિયાનો સમાવેશ થાય છે: અકાર્બનિક વાયુઓ પ્લાઝ્મા સ્થિતિમાં ઉત્તેજિત થાય છે; વાયુયુક્ત પદાર્થો નક્કર સપાટી પર શોષાય છે; શોષિત જૂથો ઘન સપાટી પરના પરમાણુઓ સાથે પ્રતિક્રિયા કરીને ઉત્પાદનના અણુઓ બનાવે છે; ઉત્પાદનના અણુઓ ગેસ તબક્કામાં વિઘટિત થાય છે; અને પ્રતિક્રિયાના અવશેષો સપાટી પરથી દૂર કરવામાં આવે છે.

પ્લાઝ્મા ક્લિનિંગ ટેક્નોલોજીની સૌથી નોંધપાત્ર વિશેષતા એ છે કે તે ધાતુઓ, સેમિકન્ડક્ટર્સ, ઓક્સાઇડ્સ અને પોલિપ્રોપીલિન, પોલિએસ્ટર, પોલિમાઇડ, પોલિવિનાઇલ ક્લોરાઇડ, ઇપોક્સી અને પોલિટેટ્રાફ્લોરોઇથિલિન જેવા મોટા ભાગના પોલિમર સામગ્રી સહિત કોઈપણ સબસ્ટ્રેટ પ્રકારનો ઉપચાર કરી શકે છે. તે સમગ્ર સપાટી અને ચોક્કસ વિસ્તારો તેમજ જટિલ માળખાં બંનેને સાફ કરી શકે છે.